近日，《日经亚洲》发布报道，揭示了ASML公司在日本半导体制造业布局的最新动向。随着日本半导体制造领域的持续扩展，以及对先进光刻机需求的不断增长，ASML计划在未来几年内大幅扩大其在日本的维护团队规模。
据悉，ASML驻日本的维护团队规模有望在现有基础上增至五倍，预计到2027年将达到100人。这一举措旨在更好地满足日本客户对光刻机维护和技术支持的需求，进一步提升ASML在日本市场的服务响应速度和效率。
报道指出，日本境内至少有三个重要项目即将引入ASML提供的EUV光刻设备。其中包括Rapidus位于北海道千岁市的IIM晶圆厂，该厂将采用2nm逻辑工艺；美光在广岛的内存生产线，计划采用1-gamma DRAM技术；以及台积电日本子公司JASM的二期晶圆厂，专注于6/7nm逻辑工艺。
若考虑DUV光刻机的应用，ASML在日本市场的设备持有量将进一步增加。为了更有效地支持这些客户，ASML决定扩大其在日本的本地支持团队。这一举措将帮助ASML在日本客户提出需求时能够迅速响应，及时处置问题，从而最大限度地减少停机时间，降低客户的损失。
随着半导体行业的快速发展和竞争的日益激烈，ASML的这一战略调整无疑将为其在日本市场的业务拓展提供有力支持。同时，这也将进一步巩固ASML在全球光刻机市场的领先地位。
