昨天(1月19日)全球最大的光刻机供应商ASML发布了2021年Q4及全年财报，去年营收186.11亿欧元，较上一财年增长33%，净利润也从35.54亿欧元涨至58.83亿欧元，全年出货42套EUV光刻机，比上一年增加11套。
Q4季度中，ASML公司还新增了71亿欧元的新订单，其中就有一套NA 0.55高数值孔径EUV光刻机的销售，这是ASML下一代光刻机，订购这个光刻机的是Intel，据说成本高达3亿美元，约合19亿元。
要知道，在当前的EUV光刻机销售中，台积电及三星都是大客户，订单量远高于Intel，但在下一代EUV光刻机中Intel拿到了独占权，有一定的抢先期，早在2018年就下第一台。
在当前NA 0.33的EUV光刻机中，Intel动作慢了，被台积电、三星抢先，Intel的EUV工艺芯片量产要到2023年的14代酷睿Metor Lake上。
在下一代NA 0.55的EUV光刻工艺中，Intel不允许同样的错误再次发生，这一次要抢先三星台积电下单，也会抢先量产20A及18A工艺，首次进入埃米级工艺节点。
基于此，4年来Intel实际上已经下单了6台NA 0.55的EUV光刻机，其中分为两种，Twinscan Exe:5000系列主要用于工艺研发，产能输出是185WPH，每小时生产185片晶圆，2023年上半年交付。
量产型的NA 0.55光刻机是Twinscan Exe:5200，产能提升到200WPH，每小时200片晶圆，预计会在2024年下线，Intel的20A工艺正好是在2024年量产。
