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AI芯片功耗攀升液冷散热成趋势 2027年渗透率或近六成

2026-08-17来源:快讯编辑:瑞雪

在人工智能技术迅猛发展的背景下,AI基础设施的建设正经历着前所未有的变革。以NVIDIA、AMD和Google为代表的科技巨头,持续推动AI芯片技术的迭代升级,使得单芯片的热设计功耗(TDP)普遍突破1千瓦大关。这一趋势直接带动了整柜式AI服务器方案的功率需求,部分高端机柜的功率已攀升至数百千瓦级别。面对如此巨大的散热挑战,液冷技术凭借其高效的热管理能力,正逐步成为高端AI计算设备的标准配置方案。

市场研究机构TrendForce集邦咨询的最新预测显示,液冷技术在AI芯片领域的渗透率将呈现显著增长态势。到2026年,这一比例预计将达到53%,并在次年进一步逼近60%的市场占有率。这一转变不仅反映了行业对散热效率的迫切需求,也预示着传统风冷技术将逐步被更先进的液冷方案所取代。特别是在高密度计算场景中,液冷系统的优势将愈发明显,成为支撑AI算力持续扩张的关键基础设施。

从市场格局来看,NVIDIA的整柜式AI服务器方案将继续保持强劲增长势头。得益于二级数据中心运营商加速布局AI领域,以及中国云服务提供商对海外AI项目的需求激增,预计到2026年,NVIDIA GB/VR等整柜式方案的出货量将实现翻倍增长。尽管2027年可能面临Kyber NVL144项目延期的挑战,但整体AI基础设施投资力度不减,GPU机柜的年度出货量仍有望保持超过30%的增速。

在竞争格局方面,AMD正通过战略转型扩大其在AI领域的影响力。该公司计划从单一GPU产品向完整AI平台解决方案拓展,预计自2026年下半年起,将重点推广集成CPU、GPU和高速互连技术的Helios AI机柜方案,并于2027年实现大规模量产。与此同时,AMD持续推进MI450平台的优化升级,并规划引入新一代MI500平台,直接对标NVIDIA的Rubin Ultra系列,形成更具竞争力的产品矩阵。这一系列举措表明,AI芯片市场的竞争正从单一产品性能比拼,向综合解决方案能力较量的方向演变。

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