英特尔公司近日宣布，其位于加利福尼亚州圣何塞的工厂已正式启用ASML公司提供的首批两台先进光刻机。据初步数据显示，这两款新型光刻机在可靠性方面显著优于之前的机型。
在圣何塞举行的一次会议上，英特尔高级首席工程师史蒂夫·卡森透露，公司已经利用ASML的高数值孔径（NA）光刻机在一个季度内成功生产了30,000片晶圆。这些晶圆是制造计算机芯片的关键原材料，每片晶圆能产出成千上万的芯片。值得注意的是，英特尔是全球第一家接收并使用这些新型光刻机的芯片制造商，预计这些设备将帮助公司生产出尺寸更小、速度更快的计算芯片。
卡森进一步指出，ASML的新型高数值孔径光刻机在初步测试阶段就展现出了令人瞩目的可靠性，大约是旧款机型的两倍。他强调说：“我们能够以稳定的速率生产晶圆，这对于整个生产平台来说无疑是一个巨大的优势。”
新型ASML光刻机采用先进的光束打印技术，能够在更少的曝光次数下完成与旧款机器相同的工作，从而有效节省生产时间和成本。据卡森介绍，英特尔工厂的早期测试结果显示，高NA光刻机仅需一次曝光和个位数的处理步骤，就能完成旧款机器需要三次曝光和约40个处理步骤的工作。
这一进步对于英特尔来说具有重要意义，因为公司在采用上一代极紫外（EUV）光刻机方面曾落后于竞争对手。过去，英特尔花费了七年时间才将旧款光刻机投入全面生产，而可靠性问题则使其失去了对台积电的领先地位。此次新型光刻机的引入，标志着英特尔在芯片制造技术领域迈出了重要的一步。
英特尔计划利用高NA光刻机推动其18A制造技术的开发，该技术预计将于今年晚些时候与新一代PC芯片一同投入大规模生产。同时，公司还计划在其下一代制造技术14A中全面使用高NA光刻机，但尚未公布该技术的大规模生产日期。随着这些新型光刻机的投入使用，英特尔有望在未来进一步提升其芯片制造技术的竞争力。
