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TechInsights预测:ASML新型High NA EUV光刻机功耗将达1400千瓦

2024-11-04来源:ITBEAR编辑:瑞雪

TechInsights最近的分析揭示,ASML的EUV光刻机功耗惊人。据悉,0.33 NA型号的功耗已达1170千瓦,而更先进的0.55 NA(High NA)型号预计将飙升至1400千瓦,这相当于约1000台满载电火锅的能耗。

随着EUV技术的普及,其对能源的需求也日益凸显。据统计,目前有31家晶圆厂采用这项技术,预计到2030年将激增至59家。而EUV光刻设备的数量,预计将增长超过一倍。

这一增长趋势意味着,到2030年,全球EUV光刻机的电力消耗将达到惊人的6100吉瓦时。这一数字与卢森堡和柬埔寨两国2020年的总用电量相当。值得注意的是,在半导体晶圆厂中,EUV光刻机的用电量仅占总用电量的11%左右。其他工艺设备和HVAC系统同样产生了巨大的能源消耗。

当前,半导体行业正面临重大抉择。一方面,EUV光刻技术在推动创新和满足先进芯片需求方面发挥着关键作用;另一方面,该技术带来的能源负担也不容忽视。

分析机构指出,随着技术的不断进步和市场的持续扩张,半导体行业需要在保持创新的同时,积极探索节能减排的解决方案,以实现可持续发展。

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